低應力電鍍鎳 氨基酸鎳 啞光鎳

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NI-2006HSX 使用可溶性陽極的鍍鎳工藝 NI-2006HSX 是氨基Sulfonic acidAcid salt型鍍鎳工藝，可產(chǎn)生低應力的，半光亮的，延展性的鎳鍍層。本工藝尤其適用于作為貴金屬和非貴金屬電鍍的底層。它專門用于可溶性陽極體系的高速電鍍設備。 設備 槽 襯橡膠，PVC，PVDC，PP或聚乙稀，襯里需用60g/Lphosphorus酸鈉在50℃瀝濾8小時，然后用水沖洗，再用5~10%sulfuric acid溶液在60℃瀝濾8小時,best后用清水徹底沖洗。 整流器 標準直流電源整流器，配有伏特計，安培計和電流連續(xù)控制器。安培計應用安培-分鐘計。 過濾 連續(xù)過濾，每小時至少一個循環(huán)。泵和濾芯應使用惰性材料。接口用Nyflex管連接。不要用不銹鋼。 加熱器 用石英或玻璃加熱器，不要用不銹鋼。 攪拌 用陽極移動或溶液循環(huán)攪拌。不要用空氣攪拌。 陽極 高純度的S陽極，用電解去極化或鎳柱陽極。陽極袋應浸在含5%（v/v）sulfuric acid的沸騰的水溶液中5~15分鐘，然后徹底沖洗干凈。 攪拌 盡可能快 電流密度 A/dm2 根據(jù)應用和設備不同而不同，best大可達25 效率 mg/Amin 17.7 17.5~18.0 95%以上 鍍1微米所需時間 5 A/dm2 秒 60 50~70 20 A/dm2 秒 15 13~17 分析 試agent 混合指示agent: 溶解1gbromine代百里Phenolic titanium藍和5gbromine甲紫于50mL乙中。 步驟 1.準確移取5mL試樣于250mL錐形瓶中。 2.加入5滴混合指示agent。 注：此時溶液應為藍色，若溶液為綠色，慢慢加入0.1N NaOH 直至溶液為藍色。 3.加入約20g甘露，搖晃直至形成均勻的漿狀物。 計算 試樣吸收峰高度 ×43 = NI-2006HSX 添加agent濃度（mL/L） 標準溶液吸收峰高度 低應力電鍍鎳 氨基Sulfonic acid酸鎳 啞光鎳 LECTRonIC 1003 HSX、LECTRonIC 1003、LECTRonIC 1003M、LECTRO-NIC OXR-1100、LECTRO-NIC OXR-1300、ENPLATE LDS AG 600 聲明 此說明書內(nèi)的內(nèi)容或關于本公司產(chǎn)品的建議，是根據(jù)本公司信賴的實驗及資料為標準。因不能控制other從業(yè)者的實際操作，本公司不能保證及負責任何不良后果。此說明書內(nèi)的所有資料也不能作為侵犯版權的證據(jù)。以上資料包括Enthone的專利信息。此說明書提供給顧客作為單獨使用本公司產(chǎn)品和工藝時用。